Intel получи награда за иновации от IEEE
Intel получи наградата за корпоративни иновации на Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE).
Наградата е присъдена за „пионерство в използването на high-k metal gate и tri-gate транзисторни технологии при производство в големи мащаби.“ Intel е първата компания, която разработва и произвежда продукти в голям обем използвайки high-k и tri-gate (или FinFET) технологии.
Тези иновации са в основата за продължаване на скалирането на транзисторите до все по-малки размери, при по-ниска стойност, подобрена производителност и по-ниска консумация на енергия. По този начин се запазва и движението по закона на Мур.
